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三氟化氮（NF 3 ）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF 3 + 5 H 2 O =" 2"
三氟化氮（NF 3 ）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF 3 + 5 H 2 O =" 2"
2025-03-20 23:54:57
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