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三氟化氮(NF 3 )是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF 3 +5H 2 O=2NO+H
三氟化氮(NF 3 )是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF 3 +5H 2 O=2NO+H
2025-03-21 03:00:25
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